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ALD16 系列膜片阀
ALD16 系列高纯膜片阀适用于半导体行业的原子层沉积工艺。
优势特点
适用于超高纯应用场合
高速气动执行器，响应时间＜20ms
FSR 接头或对焊连接
100% 氦检漏测试
最大工作压力： 300 psi (2.0 MPa)
最小工作压力： 真空
驱动压力： 60 ~ 85 psi (0.4~0.6 MPa)
耐热温度： ≤120℃
入口连接： 1/8NPT (F)
工作状态： 常闭，常开
Ra (EP)： 7 μin
内部容积：1.6 cc
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