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ALD16 系列膜片阀
ALD16 系列高纯膜片阀适用于半导体行业的原子层沉积工艺。
优势特点
适用于超高纯应用场合
高速气动执行器,响应时间<20ms
FSR 接头或对焊连接
100% 氦检漏测试
最大工作压力: 300 psi
最小工作压力: 真空
驱动压力: 60 ~ 85 psi
入口连接: 1/8" NPT (F)
工作状态: 常闭,常开
湿润表面: Ra 5 μin