IGS ALD27 系列膜片阀
IGS ALD27 系列膜片阀
ALD27 系列膜片阀严格按照 SEMI 要求制造,在百级无尘室组装测试包装,适用于半导体行业的原子层沉积工艺。
优势特点
适用于半导体行业超高纯应用
高速气动执行器,响应时间 ≤ 5ms
流量调节装置保证阀门间精确一致的 Cv
可带位置传感器或电磁导阀
100% 氦检漏测试
1.5″ C-Seal
工作压力: 真空至150 psi
驱动压力: 50 ~ 90 psi
工作状态: 常闭
湿润表面: Ra 5 μin
产品尺寸图
产品尺寸图
附件技术信息
附件技术信息
进出气口示意图
进出气口示意图
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