IGS ALD27系列膜片阀
IGS ALD27系列膜片阀
ALD27 系列膜片阀严格按照 SEMI 要求制造,在百级无尘室组装测试包装,适用于半导体行业的原子层沉积工艺。
优势特点
适用于半导体行业超高纯应用
高速气动执行器,响应时间 ≤ 5ms
流量调节装置保证阀门间精确一致的 Cv
可带位置传感器或电磁导阀
100% 氦检漏测试
1.5″ C-Seal
工作压力: 真空至150 psi
驱动压力: 50 ~ 90 psi
工作状态: 常闭
湿润表面: Ra 5 μin
产品尺寸图
产品尺寸图
附件技术信息
附件技术信息
进出气口示意图
进出气口示意图
订购指南
EX: SLVV
母体材质
- ALD27
系列号
T
介质温度
- 15C2
连接样式
- IS
选项
- S1
工艺规范
SLV: 316L VAR
SLVV: 316L VIM VAR
ALD27
无: 标准型
T: 耐热型
15C2: 1.5″ C-Seal, 两孔
15C3: 1.5″ C-Seal, 三孔
……
其他形式接头可供选择
IS: 带位置传感器
IV: 带电磁导阀
IH: 带加热器安装孔
S1: 超高纯工艺
资料下载
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