.jpg)
.png)
IGS ALD26 系列膜片阀
ALD26 系列膜片阀严格按照 SEMI 要求制造，在百级无尘室组装测试包装，适用于半导体行业的原子层沉积工艺。
优势特点
适用于半导体行业超高纯应用
高速气动执行器，响应时间 ≤5ms
流量调节装置保证阀门间精确一致的 Cv
可带电磁导阀或带光学位置传感器和放大器
100% 氦检漏测试
工作压力: 真空至150 psi
驱动压力: 50 ~ 90 psi
入口连接: M5 (F)
工作状态: 常闭
湿润表面: Ra 5 μin
